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rs屏蔽箱代加工-酷高电子,屏蔽箱厂
为了进步屏蔽箱的屏蔽作用,每两层屏蔽间保存3-4倍于薄片厚度的空间,由于薄片资料具有极高的磁导率,因此使用中应避免接连螺旋状卷绕它,寮步rs屏蔽箱,否则将有可能在屏蔽体中产生相当于磁极的结构。
当在薄片资料上钻孔时,应确保是在正确的加工片状金属的条件下进行,而不是在一般的金属加工条件下操作,由于一般的操作方法会产生螺丝起子效应导致薄片发生曲折,然后减小资料的磁导率,导致屏蔽作用的降低。
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